과녁 을 튀기다 (Sputtering Target)
프로필
스 퍼 터 링 타깃 은 사출 코팅 에 사용 되 는 타깃 으로 증발 분사 도금 이나 자기 제어 로 도금 하 는 방식 으로 바닥 에 한 층 의 피복 막 을 형성한다.타깃 의 종류 가 매우 많은 데, 금속, 도자기, 합금 등 이 있다.
분류 하 다
모양 대로: 과녁, 표적, 표적
성분 별: 금속 표적 재, 합금 타깃, 세라믹 화합물 타깃
응용 에 따 르 면 반도체 관련 세라믹 표적 재, 기록 매체 도자기 표적 재, 표시 도자기 표적 재, 초전도 세라믹 표적 재, 거자기 저항 세라믹 표적 재
사용 분야 에 따라: 마이크로 전자 표적 재, 자기 기록 타깃, 시디 타깃, 귀금속 표적 재, 필름 저항 타깃, 전도성 막 표적 재, 표면 변성 표적 재, 광학 마스크 층 타깃, 장식 층 타깃, 전극 표적 재, 표적 재
자기 제어 스 퍼 터 링 코팅
이것 은 물리 기체 코팅 막 이다.전자 총 시스템 으로 전 자 를 도금 한 재료 에 초점 을 맞 춰 튀 어 나 오 는 원 자 를 도금 재료 에 침전 시 키 는 것 이다.과녁 에 뿌 린 재 료 는 도금 한 재료 이다.
스 퍼 터 링 기술
착수 는 박막 재료 생산 기술 의 하나 이다.그것 은 이온 소스 를 이용 하여 이온 을 만들어 진공 속 에 가속 화 시 키 고 성능 이온 빔 으로 이온 과 고체 표면의 원자 가 교환 되 어 과녁 표면의 원 자 를 떠 나 게 하고 기 저 표면 에 퇴적 시 키 면 스프 사 를 완성 하 는 과정 이다.
용도
스 퍼 터 타깃 은 주로 전자 및 정보 산업 에 사용 되 는데, 예 를 들 어 집적회로, 정보 저장, 액정 디 스 플레이, 레이저 메모리, 전자 제어 부품 등 이다. 유리 코팅 분야 에 도 응용 할 수 있 고, 내 마모 재료, 고온 내 식, 고급 장식 용품 등 업계 에 도 응용 할 수 있다.
금속 스 퍼 터 타깃
니켈 표적, 티타늄 표적, 아연 표적, 크롬 표적, 마그네슘 표적, 니 오 브 젝 트, 주석 표적, 표적, 인듐 표적, 철 표적, 지르코늄 알루미늄 표적, 티타늄 알루미늄 알루미늄 알루미늄 표적, 지르코늄 표적, 알루미늄 실켓, 구리 표적, 탄탈 표적, 게르마늄 표적, 은 표적, 코발트 표적, 금 표적
세라믹 스 퍼 터 타깃
ITO 표적, AZO 표적, 산화마그네슘 표적, 산화철 표적, 질소 규소 표적, 탄화규소 표적, 질화 티타늄 표적, 산화크롬 표적, 산화 아연 표적, 유화 아연 표적, 이산 화 규소 표적, 일산 화 규소 표적, 산화 세륨 표적이 알루미늄 표적 5 산화 2 탄탈, 5 산화 2 니오브 표적, 불소화 마그네슘 표적, 불소화 이 트 륨 표적, 셀렌 화 아연 표적, 질화 알루미늄, 질화 규소 표적, 질화 붕소 표적, 질소 화 티타늄 표적, 탄화규소 표적, 니오브 라이트 스마오디뮴 표적, 티 타 슘 바륨 표적, 티타늄 란타늄 타, 산화니켈 목표 등 세라믹 스 터 드 타 겟
합금 스 퍼 터 타깃
니 크롬 표적, 니켈 바나듐 합금 표적, 알루미늄 실리콘 합금 표적, 니켈 구리 합금 표적, 티타늄 알루미늄 합금, 니켈 바나듐 합금 표적, 붕소 합금 표적, 규소철 합금 표적 등 순도 높 은 합금 스 퍼 트 타깃
그림
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시장가 격
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