Objetivo de esputo
Introducción
El objetivo de pulverización es un tipo de objetivo utilizado para la pulverización por evaporación y la pulverización de magnetrón para formar un recubrimiento sobre metal, cerámica o aleaciones.
Categoría
Formas: objetivo rectangular, objetivo redondo y objetivo personalizado
Productos químicos: objetivo de metal, objetivo de aleación y objetivo de cerámica
Aplicaciones: objetivo de cerámica semiconductora, objetivo de cerámica de grabación, objetivo de cerámica de pantalla, cerámica superconductora y objetivo de cerámica resistente a imanes gigantes
Industria aplicada: objetivo microelectrónico, objetivo de grabación magnética, objetivo de disco óptico, objetivo de metal precioso, objetivo de resistencia de película, objetivo de película conductora, objetivo de modificación de superficie, objetivo de capa de máscara, objetivo de capa decorativa, objetivo de electrodo, objetivo de embalaje
Sputtering controlado por imán
Es un tipo de recubrimiento de vapor físico. El principio de la pulverización catódica es usar un sistema de pistola de electrones para enfocar la emisión de electrones en materiales específicos para formar una película. El objetivo de pulverización es el material a rociar.
Tecnología Sputtering
Sputtering es un método para producir película, que se aplica como fuente de iones para producir iones y se acumula en la cámara de vacío y forma un haz de iones. El haz es reactivo con el ion en la superficie del metal y luego se cubre. Se completa un proceso de pulverización catódica.
Solicitud
El objetivo de Sputtering es ampliamente utilizado en la industria electrónica y de la información, como el circuito integrado, la pantalla de cristal líquido (LCD), la memoria láser y el controlador electrónico. También se puede utilizar en revestimientos de vidrio, materiales abrasivos, materiales resistentes a la temperatura y a la corrosión y productos decorativos.
Metas de Metal Sputtering
Objetivo de níquel, objetivo de titanio, objetivo de zinc, objetivo de cromo, objetivo de magnesio, objetivo de niobio, objetivo de estaño, objetivo de aluminio, objetivo de indio, objetivo de hierro, objetivo de aluminio de circonio, objetivo de aluminio de titanio, objetivo de circonio, objetivo de silicio de aluminio, objetivo de silicio, objetivo de cobre , objetivo de tantalio, objetivo de germanio, objetivo de plata, objetivo de cobalto, objetivo de gadolinio, objetivo de lantano, objetivo de itrio, objetivo de cerio, objetivo de tungsteno, objetivo de acero inoxidable, objetivo de níquel cromo, objetivo de hafnio, objetivo de molibdeno, objetivo de níquel de hierro y objetivo de tungsteno
Blancos de cerámica
Objetivo ITO, objetivo AZO, objetivo de óxido de magnesio, objetivo de óxido de hierro, objetivo de nitruro de silicio, objetivo de carburo de silicio, objetivo de nitruro de titanio, objetivo de óxido de cromo, objetivo de óxido de zinc, objetivo de sulfuro de zinc, objetivo de dióxido de silicio, objetivo de óxido de silicio, objetivo de óxido de cerio, blanco de dióxido de circonio, blanco de pentóxido de niobio, blanco de dióxido de titanio, blanco de dióxido de circonio, blanco de dióxido de hafnio, blanco de diboruro de titanio, blanco de diboruro de circonio, blanco de óxido de tungsteno y blanco de óxido de aluminio
Objetivos de cerámica de aleación
Objetivo de aleación NiCr, objetivo de aleación NiV, objetivo de aleación AlSi, objetivo de aleación NiCu, objetivo de aleación TiAl y objetivo de aleación SiFe
Imágenes
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Precio y mercado
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