溅射靶材 （Sputtering Target）
简介
溅射靶材是用于溅射镀膜的靶材，利用蒸发喷镀或者磁控溅镀的方式，在基底上形成一层覆膜。靶材种类众多，有金属、陶瓷、合金等。
分类
按形状：方靶，圆靶，异型靶
按成分：金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
按应用：半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材
按使用领域：微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材
磁控溅射镀膜
这是一种物理气相镀膜。原理是用电子枪系统把电子发射聚焦在被镀的材料上，使溅射出的原子在被镀材料上沉淀成膜。溅射靶材即为被镀的材料。
溅射技术
溅射是生产薄膜材料的技术之一。它是利用离子源来产生离子，使离子在真空中加速聚集，性能离子束，当离子和固体表面的原子发生交换，使靶材表面的原子离开，并沉积在基底表面，则完成溅射的过程。
用途
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等，亦可应用于玻璃镀膜领域，还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
金属溅射靶材
镍靶、钛靶、锌靶、铬靶、镁靶、铌靶、锡靶、靶、铟靶、铁靶、锆铝靶、钛铝靶、锆靶、铝硅靶、硅靶、铜靶、钽靶、锗靶、银靶、钴靶、金靶、钆靶、镧靶、钇靶、铈靶、钨靶、不锈钢靶、镍铬靶、铪靶、钼靶、铁镍靶等金属溅射靶材
陶瓷溅射靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材
合金溅射靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射靶材
图片
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市场价格
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