濺射靶材 （Sputtering Target）
簡介
濺射靶材是用於濺射鍍膜的靶材，利用蒸發噴鍍或者磁控濺鍍的方式，在基底上形成一層覆膜。靶材種類眾多，有金屬、陶瓷、合金等。
分類
按形狀：方靶，圓靶，異型靶
按成分：金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
按應用：半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材
按使用領域：微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材
磁控濺射鍍膜
這是一種物理氣相鍍膜。原理是用電子槍系統把電子發射聚焦在被鍍的材料上，使濺射出的原子在被鍍材料上沉澱成膜。濺射靶材即為被鍍的材料。
濺射技術
濺射是生產薄膜材料的技術之一。它是利用離子源來產生離子，使離子在真空中加速聚集，性能離子束，當離子和固體表面的原子發生交換，使靶材表面的原子離開，並沉積在基底表面，則完成濺射的過程。
用途
濺射靶材主要應用於電子及資訊產業，如積體電路、資訊存儲、液晶顯示幕、鐳射記憶體、電子控制器件等，亦可應用於玻璃鍍膜領域，還可以應用於耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。
金屬濺射靶材
鎳靶、鈦靶、鋅靶、鉻靶、鎂靶、鈮靶、錫靶、靶、銦靶、鐵靶、鋯鋁靶、鈦鋁靶、鋯靶、鋁矽靶、矽靶、銅靶、鉭靶、鍺靶、銀靶、鈷靶、金靶、釓靶、鑭靶、釔靶、鈰靶、鎢靶、不銹鋼靶、鎳鉻靶、鉿靶、鉬靶、鐵鎳靶等金屬濺射靶材材
陶瓷濺射靶材
ITO靶、AZO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化矽靶、碳化矽靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化矽靶、一氧化矽靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化矽靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化矽靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材
合金濺射靶材
鎳鉻合金靶、鎳釩合金靶、鋁矽合金靶、鎳銅合金靶、鈦鋁合金、鎳釩合金靶、硼鐵合金靶、矽鐵合金靶等高純度合金濺射靶材
圖片
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市場價格
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